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Padmanaban, Murirathna
11
Ergebnisse:
Sortierung: Relevanz
Sortierung: Jahr
?
1
Functional Properties of Novel Metallic Hard Masks:
Padmanaban, Murirathna
;
Cho, Joon Yeon
;
Yao, Huirong
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 26 (2013) 2 - p. 231-238 , 2013
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
2
Progress in EUV Underlayer Materials:
Yao, Huirong
;
Mullen, Salem
;
Bogusz, Zachary
..
Journal of Photopolymer Science and Technology. 25 (2012) 5 - p. 647-653 , 2012
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
3
PAG and Quencher Effects on DBARC Performance:
Padmanaban, Murirathna
;
Kudo, Takanori
;
Chakrapani, Srinivasan
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 24 (2011) 5 - p. 479-486 , 2011
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
4
Advances and Challenges in Developable Bottom Anti-Reflecti..:
Kudo, Takanori
;
Chakrapani, Srinivasan
;
Dioses, Alberto
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 23 (2010) 5 - p. 731-740 , 2010
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
5
A Novel Resist Freeze Process for Double Imaging:
Abdallah, David J.
;
Alemy, Eric
;
Chakrapani, Srinivasan
..
Journal of Photopolymer Science and Technology. 21 (2008) 5 - p. 655-663 , 2008
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
6
Novel Diamantane Polymer Platform for Resist Applications:
Padmanaban, Murirathna
;
Chakrapani, Srinivasan
;
Lin, Guanyang
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 20 (2007) 5 - p. 719-728 , 2007
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
7
Carborane-Based Photoacid Generators: New Superacids For 19..:
Dammel, Ralph R.
;
Rahman, M. Dalil
;
McKenzie, Douglas
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 20 (2007) 5 - p. 627-635 , 2007
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
8
Effect of Amine Additives on LWR and LER as Studied by Extr..:
Houlihan, Francis M.
;
Rentkiewicz, David
;
Lin, Guanyang
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 19 (2006) 3 - p. 327-334 , 2006
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
9
Leaching Phenomena and their Suppresion in 193 nm Immersion..:
Dammel, Ralph R.
;
Pawlowski, Georg
;
Romano, Andrew
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 18 (2005) 5 - p. 593-602 , 2005
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
10
Possible Origins and Some Methods to Minimize LER:
Padmanaban, Murirathna
;
Rentkiewicz, David
;
Hong, Chisun
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 18 (2005) 4 - p. 451-456 , 2005
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
11
Contact Hole Resist Solutions for 45-90nm Node Design Rules:
Padmanaban, Murirathna
;
Kudo, Takamori
;
Lin, Guanyang
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 17 (2004) 4 - p. 489-496 , 2004
Link:
https://doi.org/10.2494/..
1-11