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Hofmann, Kristina
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Holographic lithography for continuous-relief diffractive o..:

, In: Information technology and electrical engineering - devices and systems, materials and technologies for the future / Faculty of Electrical and Information Technology, [Technische Universität Ilmenau. Hrsg.: Peter Scharff]
Stoebenau, Sebastian ; Hofmann, Meike ; Teschke, Marcel.. (2006)  - p. 231-232
Exemplar:  Zentrale:Magazin 01.R.9827
 
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