Ich stimme zu, dass diese Seite Cookies verwende. Weitere Informationen finden Sie unter unseren
Datenschutzerklärungen
.
X
Login
Merkliste (
0
)
Startseite
Über uns
Startseite Über uns
Neues aus der SuUB
Geschichte der SuUB
Bibliotheksprofil
Presseinformationen
Freundeskreis
Die Bibliothek in Zahlen
Ausstellungen
Projekte
Ausbildung, Praktika und Stellenangebote
Filme zur Staats- und Universitätsbibliothek Bremen
Service & Beratung
Startseite Service & Beratung
Ausleihe & Fernleihe
Rückgabe & Verlängerung
Schulungen & Führungen
Mein Bibliothekskonto
Bibliotheksausweis
Neu in der Bibliothek?
Informationsmaterialien, Formulare und Pläne zum Download
Öffnungszeiten
Lernort Bibliothek
PC, WLAN, Kopieren, Scannen, Drucken
Kataloge & Sammlungen
Startseite Kataloge & Sammlungen
Historische Sammlungen
Digitale Sammlungen
Fachinformationen
Standorte
Startseite Standorte
Zentrale
Juridicum
Bereichsbibliothek Wirtschaftswissenschaft
Bereichsbibliothek Physik / Elektrotechnik
Teilbibliothek Technik und Sozialwesen
Teilbibliothek Wirtschaft und Nautik
Teilbibliothek Musik
Teilbibliothek Kunst
Teilbibliothek Bremerhaven
Kontakt
Startseite Kontakt
Liste der Ansprechpartner
Open Access & Publizieren
Startseite Open Access & Publizieren
Literaturverwaltung
Literatur Publizieren
Open Access in Bremen
Toggle navigation
Norasetthekul, S
12
Ergebnisse:
Online X
Personensuche
X
Format
Online (12)
Medientypen
Artikel (Online) (4)
OpenAccess-Volltexte (8)
Sortierung: Relevanz
Sortierung: Jahr
?
1
Etch characteristics of HfO2 films on Si substrates:
Norasetthekul, S.
;
Park, P.Y.
;
Baik, K.H.
...
Applied Surface Science. 187 (2002) 1-2 - p. 75-81 , 2002
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
2
Dry etch chemistries for TiO2 thin films:
Norasetthekul, S.
;
Park, P.Y.
;
Baik, K.H.
...
Applied Surface Science. 185 (2001) 1-2 - p. 27-33 , 2001
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
3
Comparison of plasma etch chemistries for MgO:
Baik, K.H.
;
Park, P.Y.
;
Gila, B.P.
...
Applied Surface Science. 183 (2001) 1-2 - p. 26-32 , 2001
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
4
Wet and dry etching of Sc2O3:
Park, P.Y.
;
Norasetthekul, S.
;
Lee, K.P.
...
Applied Surface Science. 185 (2001) 1-2 - p. 52-59 , 2001
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
5
Etch characteristics of HfO2 films on Si substrates:
Department of Materials Science and Engineering, University of Florida, P.O. Box 116400 Rhines Hall, Gainesville, FL 32611, USA ( host institution )
;
Norasetthekul, S
;
Park, P.Y
...
Applied Surface Science. , 2002
Link:
http://ufdc.ufl.edu/LS00..
?
6
Dry etch chemistries for TiO2 thin films:
Department of Materials Science and Engineering, University of Florida, P.O. Box 116400 Rhines Hall, Gainesville, FL 32611, USA ( host institution )
;
Norasetthekul, S
;
Park, P.Y
...
Applied Surface Science. , 2001
Link:
http://ufdc.ufl.edu/LS00..
?
7
Wet and dry etching of Sc2O3:
Department of Materials Science and Engineering, University of Florida Rhines Hall, P.O. Box 116400, Gainesville, FL 32611, USA ( host institution )
;
Park, P.Y
;
Norasetthekul, S
...
Applied Surface Science. , 2001
Link:
http://ufdc.ufl.edu/LS00..
?
8
Comparison of plasma etch chemistries for MgO:
Department of Materials Science and Engineering, University of Florida, P.O. Box 116400 Rhines Hall, Gainesville, FL 32611, USA ( host institution )
;
Baik, K.H
;
Park, P.Y
...
Applied Surface Science. , 2001
Link:
http://ufdc.ufl.edu/LS00..
?
9
Etch characteristics of HfO 2 films on Si substrates:
Department of Materials Science and Engineering, University of Florida, P.O. Box 116400 Rhines Hall, Gainesville, FL 32611, USA ( host institution )
;
Norasetthekul, S. ( author )
;
Park, P.Y. ( author )
...
Applied Surface Science. , 2002
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
10
Dry etch chemistries for TiO 2 thin films:
Department of Materials Science and Engineering, University of Florida, P.O. Box 116400 Rhines Hall, Gainesville, FL 32611, USA ( host institution )
;
Norasetthekul, S. ( author )
;
Park, P.Y. ( author )
...
Applied Surface Science. , 2001
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
11
Wet and dry etching of Sc 2O 3:
Department of Materials Science and Engineering, University of Florida Rhines Hall, P.O. Box 116400, Gainesville, FL 32611, USA ( host institution )
;
Park, P.Y. ( author )
;
Norasetthekul, S. ( author )
...
Applied Surface Science. , 2001
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
12
Comparison of plasma etch chemistries for MgO:
Department of Materials Science and Engineering, University of Florida, P.O. Box 116400 Rhines Hall, Gainesville, FL 32611, USA ( host institution )
;
Baik, K.H. ( author )
;
Park, P.Y. ( author )
...
Applied Surface Science. , 2001
Link:
https://doi.org/10.1016/..
1-12