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Norasetthekul, S. ( author )
6
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?
1
Etch characteristics of HfO 2 films on Si substrates:
Department of Materials Science and Engineering, University of Florida, P.O. Box 116400 Rhines Hall, Gainesville, FL 32611, USA ( host institution )
;
Norasetthekul, S. ( author )
;
Park, P.Y. ( author )
...
Applied Surface Science. , 2002
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
2
Dry etch chemistries for TiO 2 thin films:
Department of Materials Science and Engineering, University of Florida, P.O. Box 116400 Rhines Hall, Gainesville, FL 32611, USA ( host institution )
;
Norasetthekul, S. ( author )
;
Park, P.Y. ( author )
...
Applied Surface Science. , 2001
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
3
Wet and dry etching of Sc 2O 3:
Department of Materials Science and Engineering, University of Florida Rhines Hall, P.O. Box 116400, Gainesville, FL 32611, USA ( host institution )
;
Park, P.Y. ( author )
;
Norasetthekul, S. ( author )
...
Applied Surface Science. , 2001
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
4
Comparison of plasma etch chemistries for MgO:
Department of Materials Science and Engineering, University of Florida, P.O. Box 116400 Rhines Hall, Gainesville, FL 32611, USA ( host institution )
;
Baik, K.H. ( author )
;
Park, P.Y. ( author )
...
Applied Surface Science. , 2001
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
5
Etch characteristics of HfO2 films on Si substrates:
Norasetthekul, S.
;
Park, P.Y.
;
Baik, K.H.
...
Applied Surface Science. 187 (2002) 1-2 - p. 75-81 , 2002
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
6
Dry etch chemistries for TiO2 thin films:
Norasetthekul, S.
;
Park, P.Y.
;
Baik, K.H.
...
Applied Surface Science. 185 (2001) 1-2 - p. 27-33 , 2001
Link:
https://doi.org/10.1016/..
1-6