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Toriumi, Minoru
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1
Wavelength Dependence of Poly(p-hydroxystyrene) Ablation by..:
Toriumi, Minoru
;
Kawasaki, Takayasu
;
Araki, Mitsunori
..
Journal of Photopolymer Science and Technology. 32 (2019) 2 - p. 189-193 , 2019
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
2
Distributions of hafnia and titania cores in EUV metal resi..:
Toriumi, Minoru
;
Sato, Yuta
;
Koshino, Masanori
..
Applied Physics Express. 9 (2016) 11 - p. 111801 , 2016
Link:
https://doi.org/10.7567/..
?
3
Metal resist for extreme ultraviolet lithography characteri..:
Toriumi, Minoru
;
Sato, Yuta
;
Koshino, Masanori
..
Applied Physics Express. 9 (2016) 3 - p. 031601 , 2016
Link:
https://doi.org/10.7567/..
?
4
Inhomogeneity of photoacid generators in methacrylate-type ..:
Toriumi, Minoru
;
Itani, Toshiro
Japanese Journal of Applied Physics. 54 (2015) 6S1 - p. 06FE02 , 2015
Link:
https://doi.org/10.7567/..
?
5
Inhomogeneity of PAGs in Resist Film studied by Molecular D..:
Toriumi, Minoru
;
Itani, Toshiro
Journal of Photopolymer Science and Technology. 27 (2014) 5 - p. 617-622 , 2014
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
6
Measurements of binary diffusion coefficients for metal com..:
Toriumi, Minoru
;
Katooka, Ryohei
;
Yui, Kazuko
...
Fluid Phase Equilibria. 297 (2010) 1 - p. 62-66 , 2010
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
7
A Study of Molecular Orientation Effect in Photoresist Film:
Kaneyama, Koji
;
Toriumi, Minoru
;
Itani, Toshiro
Japanese Journal of Applied Physics. 47 (2008) 6S - p. 4936 , 2008
Link:
https://doi.org/10.1143/..
?
8
Reaction Mechanism of Extreme Ultraviolet Resists:
Toriumi, Minoru
;
Kaneyama, Koji
;
Itani, Toshiro
Japanese Journal of Applied Physics. 47 (2008) 6S - p. 4918 , 2008
Link:
https://doi.org/10.1143/..
?
9
Feasibility Study of Chemically Amplified Extreme Ultraviol..:
Kozawa, Takahiro
;
Tagawa, Seiichi
;
Santillan, Julius Joseph
..
Japanese Journal of Applied Physics. 47 (2008) 6R - p. 4465 , 2008
Link:
https://doi.org/10.1143/..
?
10
Effects of Rate Constant for Deprotection on Latent Image F..:
Kozawa, Takahiro
;
Tagawa, Seiichi
;
Santillan, Julius Joseph
..
Japanese Journal of Applied Physics. 47 (2008) 6S - p. 4926 , 2008
Link:
https://doi.org/10.1143/..
?
11
Analysis of Outgassing from EUV Resists:
Kobayashi, Shinji
;
Toriumi, Minoru
;
Santillan, Julious Joseph
Journal of Photopolymer Science and Technology. 20 (2007) 3 - p. 445-451 , 2007
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
12
Quartz-Crystal-Microbalance Study for Dissolution of Resist..:
Toriumi, Minoru
Journal of Photopolymer Science and Technology. 20 (2007) 4 - p. 585-590 , 2007
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
13
Dissolution behavior of tetrafluoroethylene-based fluoropol..:
Ishikawa, Takuji
;
Kodani, Tesuhiro
;
Yoshida, Tomohiro
...
Journal of Fluorine Chemistry. 125 (2004) 11 - p. 1791-1799 , 2004
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
14
A Nonaqueous Potentiometric Titration Study of the Dissocia..:
Nakatani, Kiyoharu
;
Yamashita, Jun
;
Sekine, Tomomi
..
Analytical Sciences. 19 (2003) 5 - p. 775-777 , 2003
Link:
https://doi.org/10.2116/..
?
15
The Resist Property of Fluoropolymer for 157-nm Lithography:
Ishikawa, Seiichi
;
Toriumi, Minoru
;
Miyoshi, Seiro
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 14 (2001) 4 - p. 595-601 , 2001
Link:
https://doi.org/10.2494/..
1-15