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Norasetthekul, S. ( author )
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Etch characteristics of HfO2 films on Si substrates:

Norasetthekul, S. ; Park, P.Y. ; Baik, K.H....
Applied Surface Science.  187 (2002)  1-2 - p. 75-81 , 2002
Link: https://doi.org/10.1016/..
 
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Dry etch chemistries for TiO2 thin films:

Norasetthekul, S. ; Park, P.Y. ; Baik, K.H....
Applied Surface Science.  185 (2001)  1-2 - p. 27-33 , 2001
Link: https://doi.org/10.1016/..
 
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