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Anyadiegwu, Clement
5
Ergebnisse:
Personensuche
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Sortierung: Relevanz
Sortierung: Jahr
?
1
Novel Diamantane Polymer Platform for Resist Applications:
Padmanaban, Murirathna
;
Chakrapani, Srinivasan
;
Lin, Guanyang
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 20 (2007) 5 - p. 719-728 , 2007
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
2
Effect of Amine Additives on LWR and LER as Studied by Extr..:
Houlihan, Francis M.
;
Rentkiewicz, David
;
Lin, Guanyang
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 19 (2006) 3 - p. 327-334 , 2006
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
3
193 nm Resist Line Collapse Study by Modifying the Resist P..:
Tanaka, Keiichi
;
Yamada, Yoshiaki
;
Masuda, Seiya
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 17 (2004) 4 - p. 527-534 , 2004
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
4
Influence of ArF Resist Components and Process Conditions o..:
Padmanaban, Munirathna
;
Anyadiegwu, Clement
;
Kanda, Takashi
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 16 (2003) 4 - p. 475-481 , 2003
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
5
Browning in processed yams: peroxidase or polyphenol oxidas..:
Chilaka, Ferdinand C
;
Eze, Sabinus
;
Anyadiegwu, Clement
.
Journal of the Science of Food and Agriculture. 82 (2002) 8 - p. 899-903 , 2002
Link:
https://doi.org/10.1002/..
1-5