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Dammel, Ralph
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1
Freezing Materials For Double Patterning:
Lee, Dong-Kwan
;
Cao, Yi
;
Abdallah, David
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 22 (2009) 5 - p. 653-661 , 2009
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
2
Novel Diamantane Polymer Platform for Resist Applications:
Padmanaban, Murirathna
;
Chakrapani, Srinivasan
;
Lin, Guanyang
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 20 (2007) 5 - p. 719-728 , 2007
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
3
Recent Advances in the Design of Resist Materials for 157 n..:
Houlihan, Francis
;
Sakamuri, Raj
;
Romano, Andrew
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 17 (2004) 4 - p. 621-630 , 2004
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
4
193 nm Immersion Lithography-Taking the Plunge:
Dammel, Ralph
;
Houlihan, Frank M.
;
Sakamuri, Raj
..
Journal of Photopolymer Science and Technology. 17 (2004) 4 - p. 587-601 , 2004
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
5
Influence of ArF Resist Components and Process Conditions o..:
Padmanaban, Munirathna
;
Anyadiegwu, Clement
;
Kanda, Takashi
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 16 (2003) 4 - p. 475-481 , 2003
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
6
Etch Properties of 193nm Resists: Issues and Approaches:
Padmanaban, Munirathna
;
Alemy, Eric
;
Dammel, Ralph
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 15 (2002) 3 - p. 521-527 , 2002
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
7
Dissolution Inhibitors for 157 nm Lithography: A Progress R..:
Conley, Will
;
Miller, Daniel
;
Chambers, Charles
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 15 (2002) 4 - p. 613-617 , 2002
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
8
Materials and Resists for 193 and 157nm Applications:
Padmanaban, Munirathna
;
Alemy, Eric
;
Bae, Jun-Bom
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 14 (2001) 4 - p. 631-642 , 2001
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
9
t‐BOC blocked hydroxyphenyl‐methacrylates: On the way to qu..:
Przybilla, Klaus‐jürgen
;
Dammel, Ralph
;
Pawlowski, Georg
..
Polymer Engineering & Science. 32 (1992) 20 - p. 1516-1522 , 1992
Link:
https://doi.org/10.1002/..
?
10
Novel photoacid generators: Key components for the progress..:
PAWLOWSKI, GEORG
;
DAMMEL, RALPH
;
PRZYBILLA, KLAUS-JÜRGEN
..
Journal of Photopolymer Science and Technology. 4 (1991) 3 - p. 389-402 , 1991
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
11
New t-BOC blocked polymers for advanced lithographic applic..:
PRZYBILLA, KLAUS-JÜRGEN
;
DAMMEL, RALPH
;
RÖSCHERT, HORST
..
Journal of Photopolymer Science and Technology. 4 (1991) 3 - p. 421-432 , 1991
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
12
Substituted polyhydroxystyrenes as matrix resins for chemic..:
Pawlowski, Georg
;
Dammel, Ralph
;
Eckes, Charlotte
...
Microelectronic Engineering. 13 (1991) 1-4 - p. 29-32 , 1991
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
13
Gasphasen-Reaktionen, 71PE-Spektren und Pyrolysen stickstof..:
Bock, Hans
;
Dammel, Ralph
Zeitschrift für Naturforschung B. 45 (1990) 1 - p. 59-71 , 1990
Link:
https://doi.org/10.1515/..
?
14
Percolation theory and resist development in x-ray lithogra..:
Oertel, Heinrich K.
;
Weiss, Manfred
;
Dammel, Ralph
.
Microelectronic Engineering. 11 (1990) 1-4 - p. 267-270 , 1990
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
15
A novel two component positive photoresist for deep UV lith..:
Pawlowski, Georg
;
Dammel, Ralph
;
Lindley, Charlet R.
...
Microelectronic Engineering. 11 (1990) 1-4 - p. 491-495 , 1990
Link:
https://doi.org/10.1016/..
1-15