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Glinsner, T.
3  Ergebnisse:
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Nanoimprint lithography from CHARPAN Tool exposed master st..:

Muehlberger, M. ; Boehm, M. ; Bergmair, I....
Microelectronic Engineering.  88 (2011)  8 - p. 2070-2073 , 2011
Link: https://doi.org/10.1016/..
 
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Fully automated hot embossing processes utilizing high reso..:

Glinsner, T. ; Veres, T. ; Kreindl, G....
Microelectronic Engineering.  87 (2010)  5-8 - p. 1037-1040 , 2010
Link: https://doi.org/10.1016/..
 
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A Moiré method for high accuracy alignment in nanoimprint l..:

Mühlberger, M. ; Bergmair, I. ; Schwinger, W....
Microelectronic Engineering.  84 (2007)  5-8 - p. 925-927 , 2007
Link: https://doi.org/10.1016/..
 
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