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Junige, Marcel
8  Ergebnisse:
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Selectivity between SiO2 and SiNx during Thermal Atomic Lay..:

Junige, Marcel ; George, Steven M.
Chemistry of Materials.  , 2024
Link: https://doi.org/10.1021/..
 
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2

3D system integration on 300 mm wafer level: High-aspect-ra..:

Killge, Sebastian ; Bartusseck, Irene ; Junige, Marcel...
Microelectronic Engineering.  205 (2019)  - p. 20-25 , 2019
Link: https://doi.org/10.1016/..
 
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3

High-Definition Nanoimprint Stamp Fabrication by Atomic Lay..:

Khan, Sabbir A. ; Suyatin, Dmitry B. ; Sundqvist, Jonas...
ACS Applied Nano Materials.  1 (2018)  6 - p. 2476-2482 , 2018
Link: https://doi.org/10.1021/..
 
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4

Atomic layer deposition for high aspect ratio through silic..:

Knaut, Martin ; Junige, Marcel ; Neumann, Volker...
Microelectronic Engineering.  107 (2013)  - p. 80-83 , 2013
Link: https://doi.org/10.1016/..
 
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5

In-situ analysis on the initial growth of ultra-thin ruthen..:

Geidel, Marion ; Junige, Marcel ; Albert, Matthias.
Microelectronic Engineering.  107 (2013)  - p. 151-155 , 2013
Link: https://doi.org/10.1016/..
 
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6

Untersuchung und Optimierung eines plasmagestützten Ruthen.. 

Studienarbeit 
, 2009
Link: http://edok01.tib.uni-ha..
 
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7

Atomic layer deposition of Al²O³ on NF³-pre-treated graphen:

Junige, Marcel ; Oddoy, Tim ; Yakimovab, Rositsa...
10.1117/12.2181242.  , 2015
Link: https://nbn-resolving.or..
 
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8

Entwicklung und Charakterisierung eines Prozesses zur therm..:

Junige, Marcel
urn:nbn:de:bsz:14-qucosa-65342.  , 2011
Link: https://nbn-resolving.or..
 
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