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Kumise, Takaaki
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Patterning capability of new molecular resist in EUV lithog..:

Oizumi, Hiroaki ; Tanaka, Yuusuke ; Kumise, Takaaki...
Microelectronic Engineering.  84 (2007)  5-8 - p. 1049-1053 , 2007
Link: https://doi.org/10.1016/..
 
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2

Evaluation of New Molecular Resist for EUV Lithography:

Oizumi, Hiroaki ; Tanaka, Yuusuke ; Kumise, Takaaki...
Journal of Photopolymer Science and Technology.  20 (2007)  3 - p. 403-410 , 2007
Link: https://doi.org/10.2494/..
 
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3

Ultrahigh-Density HfO2 Nanodots for Flash Memory Scaling:

Wakai, Hironori ; Sugizaki, Taro ; Kumise, Takaaki...
Japanese Journal of Applied Physics.  45 (2006)  4R - p. 2459 , 2006
Link: https://doi.org/10.1143/..
 
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