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Lawrie, Kirsten
6
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Sortierung: Jahr
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1
Extreme ultraviolet (EUV) degradation of poly(olefin sulfon..:
Lawrie, Kirsten
;
Blakey, Idriss
;
Blinco, James
...
Radiation Physics and Chemistry. 80 (2011) 2 - p. 236-241 , 2011
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
2
Polysulfone based non-CA resists for 193nm immersion lithog..:
Chen, Lan
;
Goh, Yong-Keng
;
Lawrie, Kirsten
...
Radiation Physics and Chemistry. 80 (2011) 2 - p. 242-247 , 2011
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
3
Chain scission resists for extreme ultraviolet lithography ..:
Lawrie, Kirsten J.
;
Blakey, Idriss
;
Blinco, James P.
...
Journal of Materials Chemistry. 21 (2011) 15 - p. 5629 , 2011
Link:
https://doi.org/10.1039/..
?
4
Synthesis and Polymerization Studies of Organic‐Soluble Eum..:
Lawrie, Kirsten J.
;
Meredith, Paul
;
McGeary, Ross P.
Photochemistry and Photobiology. 84 (2008) 3 - p. 632-638 , 2008
Link:
https://doi.org/10.1111/..
?
5
Reactogenicity and immunogenicity after a late second dose ..:
Flaxman, Amy
;
Marchevsky, Natalie G
;
Jenkin, Daniel
...
http://eprints.gla.ac.uk/260578/1/260578.pdf. , 2021
Link:
http://eprints.gla.ac.uk..
?
6
The Edinburgh High Risk Study: current status and future pr..:
JOHNSTONE, EVE C
;
RUSSELL, KIRSTEN D
;
HARRISON, LESLEY K
.
http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC1525062. , 2003
Link:
http://www.ncbi.nlm.nih...
1-6