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Lee, Seonhaeng
15
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?
1
Current-Voltage Modeling of DRAM Cell Transistor Using Gene..:
Park, Jun Hui
;
Kim, Jung Nam
;
Lee, Seonhaeng
...
IEEE Access. 12 (2024) - p. 23881-23886 , 2024
Link:
https://doi.org/10.1109/..
?
2
Cryogenic Body Bias Effect in DRAM Peripheral and Buried-Ch..:
You, Hyunseo
;
Nam, Kihoon
;
An, Jehyun
...
IEEE Access. 12 (2024) - p. 10988-10994 , 2024
Link:
https://doi.org/10.1109/..
?
3
Forward Body Bias Technique in DRAM Peripheral Transistor a..:
, In:
2023 7th IEEE Electron Devices Technology & Manufacturing Conference (EDTM)
,
You, Hyunseo
;
An, Jehyun
;
Nam, Kihoon
... - p. 1-3 , 2023
Link:
https://doi.org/10.1109/..
?
4
Bidirectional Precharge and Negative Bias Scheme for Progra..:
Nam, Kihoon
;
Park, Chanyang
;
Kim, Donghyun
...
IEEE Transactions on Electron Devices. 70 (2023) 12 - p. 6313-6317 , 2023
Link:
https://doi.org/10.1109/..
?
5
Improved electrical characteristics and reliability of p-MO..:
Lee, Seonhaeng
;
Yoo, Keon
;
Ryu, Youngmi
...
Solid-State Electronics. 167 (2020) - p. 107783 , 2020
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
6
Saturation of threshold-voltage shift during positive bias ..:
Kim, Cheolgyu
;
Kim, Hyeokjin
;
Lee, Seonhaeng
..
Japanese Journal of Applied Physics. 53 (2014) 8S1 - p. 08LA02 , 2014
Link:
https://doi.org/10.7567/..
?
7
Effect of negative bias temperature instability induced by ..:
Lee, Seonhaeng
;
Kim, Cheolgyu
;
Kim, Hyeokjin
...
Microelectronics Reliability. 53 (2013) 9-11 - p. 1351-1354 , 2013
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
8
Effect of electron–electron scattering at an elevated tempe..:
Lee, Seonhaeng
;
Kim, Dongwoo
;
Kim, Cheolgyu
...
Microelectronics Reliability. 52 (2012) 9-10 - p. 1905-1908 , 2012
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
9
Effect of La2O3 Capping Layer Thickness on Hot-Carrier Degr..:
Kim, Dongwoo
;
Lee, Seonhaeng
;
Kim, Cheolgyu
..
Japanese Journal of Applied Physics. 51 (2012) 2S - p. 02BC10 , 2012
Link:
https://doi.org/10.1143/..
?
10
Effect of La2O3Capping Layer Thickness on Hot-Carrier Degra..:
Kim, Dongwoo
;
Lee, Seonhaeng
;
Kim, Cheolgyu
..
Japanese Journal of Applied Physics. 51 (2012) 2S - p. 02BC10 , 2012
Link:
https://doi.org/10.7567/..
?
11
Measurement of mechanical stresses induced by hybrid shallo..:
Lee, Seonhaeng
;
Kim, Dongwoo
;
Kim, Cheolgyu
...
Microelectronic Engineering. 91 (2012) - p. 44-49 , 2012
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
12
Enhanced degradation of n-MOSFETs with high-k/metal gate st..:
Kim, Dongwoo
;
Lee, Seonhaeng
;
Kim, Cheolgyu
...
Microelectronics Reliability. 52 (2012) 9-10 - p. 1901-1904 , 2012
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
13
Channel width dependence of mechanical stress effects induc..:
Lee, Seonhaeng
;
Kim, Dongwoo
;
Kim, Cheolgyu
...
Microelectronics Reliability. 52 (2012) 9-10 - p. 1949-1952 , 2012
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
14
Influence of dummy active patterns on mechanical stress ind..:
Kim, Dongwoo
;
Lee, Seonhaeng
;
Oh, T.K.
...
Microelectronic Engineering. 88 (2011) 6 - p. 882-887 , 2011
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
15
Cryogenic Body Bias Effect in DRAM Peripheral and Buried-Ch..:
Hyunseo You
;
Kihoon Nam
;
Jehyun An
...
https://ieeexplore.ieee.org/document/10398173/. , 2024
Link:
https://doi.org/10.1109/..
1-15