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Linholm, L.W.
16
Ergebnisse:
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Format
Online (16)
Medientypen
Artikel (Online) (10)
Buchkapitel (Online) (1)
OpenAccess-Volltexte (5)
Sortierung: Relevanz
Sortierung: Jahr
?
1
Electrical linewidth standards for advanced lithography cha..:
Linholm, L.W.
;
Allen, R.A.
;
Cresswell, M.W.
...
Computer Standards & Interfaces. 21 (1999) 2 - p. 190 , 1999
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
2
CMOS Process Monitor:
, In:
Proceedings of the IEEE International Conference on Microelectronic Test Structures
,
Buehler, M.G.
;
Linholm, L.W.
;
Tyree, V.C.
... - p. 164,165,166,167,168 , 1988
Link:
https://doi.org/10.1109/..
?
3
An Improved Test Structure and Kelvin‐Measurement Method fo..:
Mazer, J. A.
;
Linholm, L. W.
;
Saxena, A. N.
Journal of The Electrochemical Society. 132 (1985) 2 - p. 440-443 , 1985
Link:
https://doi.org/10.1149/..
?
4
Comparison of microelectronic test structures for propagati..:
Radacks, D.J.
;
Yao, C.T.
;
Linholm, L.W.
..
Microelectronics Journal. 16 (1985) 6 - p. 39-46 , 1985
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
5
An Electrical Test Structure for Proximity Effects Measurem..:
Yen, D.
;
Linholm, L. W.
;
Glendinning, W. B.
Journal of The Electrochemical Society. 132 (1985) 7 - p. 1726-1729 , 1985
Link:
https://doi.org/10.1149/..
?
6
Minimum test chip sample size selection for characterizing ..:
Suehle, J.S.
;
Linholm, L.W.
;
Kafadar, K.
IEEE Journal of Solid-State Circuits. 19 (1984) 1 - p. 123-130 , 1984
Link:
https://doi.org/10.1109/..
?
7
A Cross‐Bridge Test Structure for Evaluating the Linewidth ..:
Yen, D.
;
Linholm, L. W.
;
Buehler, M. G.
Journal of The Electrochemical Society. 129 (1982) 10 - p. 2313-2318 , 1982
Link:
https://doi.org/10.1149/..
?
8
An optimized output stage for MOS integrated circuits:
Linholm, L.W.
IEEE Journal of Solid-State Circuits. 10 (1975) 2 - p. 106-109 , 1975
Link:
https://doi.org/10.1109/..
?
9
Reference-length shortening by Kelvin voltage taps in linew..:
Lee, William E.
;
Guthrie, William F.
;
Cresswell, Michael W.
...
Computer Standards & Interfaces. 21 (1999) 2 - p. 193 , 1999
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
10
Recent Developments in Electrical Linewidth and Overlay Met..:
Cresswell, Michael W.
;
Sniegowski, Jeffry J.
;
Ghoshtagore, Rathindra N.
...
Japanese Journal of Applied Physics. 35 (1996) 12S - p. 6597 , 1996
Link:
https://doi.org/10.1143/..
?
11
Minimum test chip sample size selection for characterizing ..:
Suehle, J. S
;
Linholm, L. W
;
Kafadar, K
https://zenodo.org/record/1275173. , 1984
Link:
https://zenodo.org/recor..
?
12
Test structure for the in-plane locations of project featur..:
Cresswell, M. W
;
Allen, R. A
;
Linholm, L. W
...
https://zenodo.org/record/1271117. , 1970
Link:
https://zenodo.org/recor..
?
13
A new method to measure the distance between graduation lin..:
Penzes, W. B
;
Allen, R. A
;
Cresswell, M. W
..
https://zenodo.org/record/1260797. , 1970
Link:
https://zenodo.org/recor..
?
14
Metrology standards for advanced semiconductor lithography ..:
Teague, E. C
;
Linholm, L. W
;
Cresswell, M. W
...
https://zenodo.org/record/1271119. , 1970
Link:
https://zenodo.org/recor..
?
15
Test patterns NBS-28 and NBS-28A : random fault interconnec..:
Mitchell, Michael A
;
Linholm, Loren W
;
United States. National Bureau of Standards. Special publication
..
http://hdl.handle.net/2027/mdp.39015077586009. , 1981
Link:
http://hdl.handle.net/20..
1-15