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Pohorelec, O.
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Investigation of interfaces and threshold voltage instabili..:

Pohorelec, O. ; Ťapajna, M. ; Gregušová, D....
Applied Surface Science.  528 (2020)  - p. 146824 , 2020
Link: https://doi.org/10.1016/..
 
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Technology and application of in-situ AlOx layers on III-V ..:

Kúdela, R. ; Šoltýs, J. ; Kučera, M....
Applied Surface Science.  461 (2018)  - p. 33-38 , 2018
Link: https://doi.org/10.1016/..
 
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3

Effect of HCl pretreatment on the oxide/semiconductor inter..:

, In: 2016 11th International Conference on Advanced Semiconductor Devices & Microsystems (ASDAM),
Tapajna, M. ; Husekova, K. ; Pohorelec, O.... - p. 207-210 , 2016
Link: https://doi.org/10.1109/..
 
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