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Rentkiewicz, David
6
Ergebnisse:
Personensuche
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Sortierung: Relevanz
Sortierung: Jahr
?
1
Carborane-Based Photoacid Generators: New Superacids For 19..:
Dammel, Ralph R.
;
Rahman, M. Dalil
;
McKenzie, Douglas
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 20 (2007) 5 - p. 627-635 , 2007
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
2
Effect of Amine Additives on LWR and LER as Studied by Extr..:
Houlihan, Francis M.
;
Rentkiewicz, David
;
Lin, Guanyang
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 19 (2006) 3 - p. 327-334 , 2006
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
3
Possible Origins and Some Methods to Minimize LER:
Padmanaban, Murirathna
;
Rentkiewicz, David
;
Hong, Chisun
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 18 (2005) 4 - p. 451-456 , 2005
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
4
Recent Advances in the Design of Resist Materials for 157 n..:
Houlihan, Francis
;
Sakamuri, Raj
;
Romano, Andrew
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 17 (2004) 4 - p. 621-630 , 2004
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
5
193 nm Immersion Lithography-Taking the Plunge:
Dammel, Ralph
;
Houlihan, Frank M.
;
Sakamuri, Raj
..
Journal of Photopolymer Science and Technology. 17 (2004) 4 - p. 587-601 , 2004
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
6
New Fluorinated Resins for 157 nm Lithography Application:
Houlihan, Francis
;
Romano, Andrew
;
Rentkiewicz, David
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 16 (2003) 4 - p. 581-590 , 2003
Link:
https://doi.org/10.2494/..
1-6