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Santillan, Julius Joseph
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1
Stochastic defect generation depending on tetraalkylhydroxi..:
Harumoto, Masahiko
;
dos Santos, Andreia Figueiredo
;
Santillan, Julius Joseph
..
Japanese Journal of Applied Physics. 62 (2023) 1 - p. 016503 , 2023
Link:
https://doi.org/10.35848..
?
2
Photoresist stochastic defect generation depending on alkyl..:
Harumoto, Masahiko
;
dos Santos, Andreia Figueiredo
;
Santillan, Julius Joseph
..
Japanese Journal of Applied Physics. 62 (2023) SG - p. SG1037 , 2023
Link:
https://doi.org/10.35848..
?
3
Effect of Alternative Developer Solutions on EUVL Patternin:
Santillan, Julius Joseph
;
Shimizu, Kyoko
;
Otogawa, Ryuichi
.
Journal of Photopolymer Science and Technology. 35 (2022) 1 - p. 67-74 , 2022
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
4
Dependence of photoresist dissolution dynamics in alkaline ..:
Harumoto, Masahiko
;
Santillan, Julius Joseph
;
Itani, Toshiro
.
Japanese Journal of Applied Physics. 61 (2022) 5 - p. 056506 , 2022
Link:
https://doi.org/10.35848..
?
5
Pattern collapse mitigation by controlling atmosphere durin..:
Harumoto, Masahiko
;
Motono, Tomohiro
;
dos Santos, Andreia Figueiredo
...
Japanese Journal of Applied Physics. 60 (2021) SC - p. SCCA03 , 2021
Link:
https://doi.org/10.35848..
?
6
Application of ethyltrimethylammonium hydroxide (ETMAH) as ..:
Santillan, Julius Joseph
;
Harumoto, Masahiko
;
Motono, Tomohiro
...
Japanese Journal of Applied Physics. 60 (2021) SC - p. SCCC01 , 2021
Link:
https://doi.org/10.35848..
?
7
Reaction mechanism of ZrO xmetal resists with extreme ultra..:
Yamashita, Yoshiyuki
;
Chikyow, Toyohiro
;
Santillan, Julius Joseph
.
Japanese Journal of Applied Physics. 58 (2019) SD - p. SDDC01 , 2019
Link:
https://doi.org/10.7567/..
?
8
Dependence of relationship between chemical gradient and li..:
Kozawa, Takahiro
;
Nakajima, Ayako
;
Yamada, Teppei
...
Japanese Journal of Applied Physics. 58 (2019) 3 - p. 036501 , 2019
Link:
https://doi.org/10.7567/..
?
9
Alternative Developer Solutions and Processes for EUV and A..:
Harumoto, Masahiko
;
Santillan, Julius Joseph
;
Nakayama, Chisayo
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 32 (2019) 2 - p. 321-326 , 2019
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
10
Pulse radiolysis of methacrylic acid ligand for zirconia na..:
Yamada, Teppei
;
Ishihara, Satoshi
;
Muroya, Yusa
...
Japanese Journal of Applied Physics. 58 (2019) 3 - p. 036503 , 2019
Link:
https://doi.org/10.7567/..
?
11
Relationship between Resolution Blur and Stochastic Defect ..:
Kozawa, Takahiro
;
Santillan, Julius Joseph
;
Itani, Toshiro
Journal of Photopolymer Science and Technology. 32 (2019) 1 - p. 161-167 , 2019
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
12
Resist Patterning Characteristics using KrF Laser-ablation ..:
Yamaoka, Hiroshi
;
Santillan, Julius Joseph
;
Uemori, Nobutaka
.
Journal of Photopolymer Science and Technology. 32 (2019) 2 - p. 355-360 , 2019
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
13
Characterization Studies on Metal-based EUV Resist Film Pro..:
Santillan, Julius Joseph
;
Itani, Toshiro
Journal of Photopolymer Science and Technology. 31 (2018) 5 - p. 663-667 , 2018
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
14
Electron–hole pairs generated in ZrO2nanoparticle resist up..:
Kozawa, Takahiro
;
Santillan, Julius Joseph
;
Itani, Toshiro
Japanese Journal of Applied Physics. 57 (2018) 2 - p. 026501 , 2018
Link:
https://doi.org/10.7567/..
?
15
Relationship between Resolution Blur and Shot Noise in Line..:
Kozawa, Takahiro
;
Santillan, Julius Joseph
;
Itani, Toshiro
Journal of Photopolymer Science and Technology. 31 (2018) 2 - p. 183-188 , 2018
Link:
https://doi.org/10.2494/..
1-15