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Shichi, Hiroyasu
11
Ergebnisse:
Personensuche
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Sortierung: Relevanz
Sortierung: Jahr
?
1
Estimation of needle height using relative parallax between..:
Shichi, Hiroyasu
;
Tsuneta, Ruriko
;
Fukuda, Muneyuki
Precision Engineering. 67 (2021) - p. 453-460 , 2021
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
2
Characteristics Comparison of Neon, Argon, and Krypton Ion ..:
Shichi, Hiroyasu
;
Matsubara, Shinichi
;
Hashizume, Tomihiro
Microscopy and Microanalysis. 25 (2019) 1 - p. 105-114 , 2019
Link:
https://doi.org/10.1017/..
?
3
Characteristics of krypton ion emission from a gas field io..:
Shichi, Hiroyasu
;
Matsubara, Shinichi
;
Hashizume, Tomihiro
Japanese Journal of Applied Physics. 56 (2017) 6S1 - p. 06GC01 , 2017
Link:
https://doi.org/10.7567/..
?
4
Comparison of Characteristics of Neon, Argon, and Krypton I..:
Shichi, Hiroyasu
;
Matsubara, Shinichi
;
Hashizume, Tomihiro
Microscopy and Microanalysis. 23 (2017) S1 - p. 274-275 , 2017
Link:
https://doi.org/10.1017/..
?
5
Novel Scanning Ion Microscope with H3+ Gas Field Ionization..:
Matsubara, Shinichi
;
Shichi, Hiroyasu
;
Kawanami, Yoshimi
.
Microscopy and Microanalysis. 22 (2016) S3 - p. 614-615 , 2016
Link:
https://doi.org/10.1017/..
?
6
A new and simple probe-based method for preventing charging..:
Fukuda, Muneyuki
;
Tomimatsu, Satoshi
;
Shichi, Hiroyasu
.
Microelectronic Engineering. 78-79 (2005) - p. 22-28 , 2005
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
7
Developments of new concept analytical instruments for fail..:
Mitsui, Yasuhiro
;
Yano, Fumiko
;
Kakibayashi, Hiroshi
..
Microelectronics Reliability. 41 (2001) 8 - p. 1171-1183 , 2001
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
8
Secondary ion mass spectrometry round‐robin study of impuri..:
Shichi, Hiroyasu
;
Ogawa, Tomoya
;
Kurosawa, Satoru
...
Surface and Interface Analysis. 21 (1994) 1 - p. 23-31 , 1994
Link:
https://doi.org/10.1002/..
?
9
Cesium liquid metal ion source for secondary ion mass spect..:
Umemura, Kaoru
;
Shichi, Hiroyasu
;
Nomura, Setsuo
Review of Scientific Instruments. 65 (1994) 7 - p. 2276-2280 , 1994
Link:
https://doi.org/10.1063/..
?
10
High Contrast of Scanning Ion Microscopy Images Shows Eleme..:
Setsuo Nomura, Setsuo Nomura
;
Hiroyasu Shichi, Hiroyasu Shichi
Japanese Journal of Applied Physics. 30 (1991) 6A - p. L1059 , 1991
Link:
https://doi.org/10.1143/..
?
11
Secondary Ion Yield Changes in Si due to Topography Changes..:
Shichi, Hiroyasu
;
Kazuhiro Ohnishi, Kazuhiro Ohnishi
;
Setsuo Nomura, Setsuo Nomura
Japanese Journal of Applied Physics. 30 (1991) 5B - p. L927 , 1991
Link:
https://doi.org/10.1143/..
1-11