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Surisetty, Charan
5
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Artikel (Online) (4)
OpenAccess-Volltexte (1)
Sortierung: Relevanz
Sortierung: Jahr
?
1
CMP Challenges for Advanced Technology Nodes:
Zhang, John H.
;
Huang, Haigou
;
Greene, Andrew M.
...
MRS Advances. 2 (2017) 44 - p. 2361-2372 , 2017
Link:
https://doi.org/10.1557/..
?
2
CMP Challenges for Advanced Technology Nodes beyond Si:
Zhang, John H
;
Tsai, Stan
;
Surisetty, Charan
...
MRS Advances. 2 (2017) 51 - p. 2891-2902 , 2017
Link:
https://doi.org/10.1557/..
?
3
CMP: Consideration of Stop-on Selectivity in Advanced Node ..:
Tsai, Stan
;
Amanapu, Hari
;
Xie, Ruilong
...
ECS Transactions. 77 (2017) 4 - p. 169-177 , 2017
Link:
https://doi.org/10.1149/..
?
4
Cleaning Solutions for Ultrathin Co Barriers for Advanced T..:
Alety, Sridevi R
;
Lagudu, Uma R. K.
;
Popuri, R.
...
ECS Journal of Solid State Science and Technology. 6 (2017) 9 - p. P671-P680 , 2017
Link:
https://doi.org/10.1149/..
?
5
Experimental study of copper leveling additives and their w..:
James Kelly
;
Charan Surisetty
;
Donald Canaperi
1631-0748. , 2013
Link:
https://comptes-rendus.a..
1-5