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Tanaka, Hatsuyuki
7
Ergebnisse:
Personensuche
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Sortierung: Relevanz
Sortierung: Jahr
?
1
Relationship between Dissolution Property and Molecular Wei..:
Yamamoto, Masashi
;
Kitai, Ryuta
;
Horibe, Yasuharu
..
Journal of Photopolymer Science and Technology. 22 (2009) 3 - p. 357-362 , 2009
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
2
Advanced RELACS Technology for ArF Resist:
Terai, Mamoru
;
Toyoshima, Toshiyuki
;
Ishibashi, Takeo
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 16 (2003) 4 - p. 507-510 , 2003
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
3
Below 100-nm Hole Pattern Formation Using Resolution Enhanc..:
Toyoshima, Toshiyuki
;
Ishibashi, Takeo
;
Yasuda, Naoki
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 15 (2002) 3 - p. 377-378 , 2002
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
4
Top Antireflective Coating Process for 193 nm Lithography:
Takano, Yusuke
;
Ijima, Kazuyo
;
Akiyama, Yasushi
...
Japanese Journal of Applied Physics. 41 (2002) Part 1, No. 6B - p. 4051-4054 , 2002
Link:
https://doi.org/10.1143/..
?
5
Advanced Micro-Lithography Process with Chemical Shrink Tec..:
Ishibashi, Takeo
;
Toyoshima, Toshiyuki
;
Yasuda, Naoki
...
Japanese Journal of Applied Physics. 40 (2001) 1R - p. 419 , 2001
Link:
https://doi.org/10.1143/..
?
6
Advanced Micro-Lithography Process for i-line Lithography:
Ishibashi, Takeo
;
Toyoshima, Toshiyuki
;
Kanda, Takashi
...
Japanese Journal of Applied Physics. 40 (2001) 12R - p. 7156 , 2001
Link:
https://doi.org/10.1143/..
?
7
Bottom Anti-Reflective Coatings for DUV Lithography:
Kang, Wen-Bing
;
Tanaka, Hatsuyuki
;
Kimura, Ken
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 10 (1997) 3 - p. 471-477 , 1997
Link:
https://doi.org/10.2494/..
1-7