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Tercero, Jomar Unico
5
Ergebnisse:
Personensuche
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Sortierung: Relevanz
Sortierung: Jahr
?
1
High-throughput SiN ALE: surface reaction and ion-induced d..:
Hirata, Akiko
;
Fukasawa, Masanaga
;
Tercero, Jomar Unico
...
Japanese Journal of Applied Physics. 62 (2023) SI - p. SI1015 , 2023
Link:
https://doi.org/10.35848..
?
2
Surface chemical reactions of etch stop prevention in plasm..:
Tercero, Jomar U.
;
Hirata, Akiko
;
Isobe, Michiro
...
Surface and Coatings Technology. 477 (2024) - p. 130365 , 2024
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
3
Molecular dynamics simulations of silicon nitride atomic la..:
Tercero, Jomar U.
;
Isobe, Michiro
;
KARAHASHI, Kazuhiro
.
Japanese Journal of Applied Physics. , 2024
Link:
https://doi.org/10.35848..
?
4
Five-step plasma-enhanced atomic layer etching of silicon n..:
Hirata, Akiko
;
Fukasawa, Masanaga
;
Tercero, Jomar U.
...
Japanese Journal of Applied Physics. 61 (2022) 6 - p. 066002 , 2022
Link:
https://doi.org/10.35848..
?
5
Effect of ammonium persulfate on the growth of MnO2 nanostr..:
Aquino, Christian Laurence E.
;
Gorospe, Alloyssius E.G.B.
;
Rezaga, Bethel Faith Y.
...
Materials Today: Proceedings. 33 (2020) - p. 1945-1948 , 2020
Link:
https://doi.org/10.1016/..
1-5