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USHIROGOUCHI, Tohru
19
Ergebnisse:
Personensuche
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Sortierung: Relevanz
Sortierung: Jahr
?
1
Nano-stabilized Photo-curable Inkjet Ink for Printing and P..:
Ishibashi, Mitsuru
;
Hotta, Yasuyuki
;
Ushirogouchi, Tohru
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 19 (2006) 5 - p. 653-656 , 2006
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
2
F2 Laser Resist with Fluorinated Polymers:
Naito, Takuya
;
Saito, Satoshi
;
Shida, Naomi
.
Journal of Photopolymer Science and Technology. 15 (2002) 4 - p. 689-692 , 2002
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
3
A new positive electron-beam resist material composed of ca..:
Saito, Satoshi
;
Kihara, Naoko
;
Ushirogouchi, Tohru
Microelectronic Engineering. 61-62 (2002) - p. 777-781 , 2002
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
4
Advanced Materials for 193-nm Resists:
Shida, Naomi
;
Ushirogouchi, Tohru
;
Asakawa, Koji
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 13 (2000) 4 - p. 601-606 , 2000
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
5
EB Resist Materials Consist of Catechol Derivatives:
Kihara, Naoko
;
Saito, Satoshi
;
Ushirogouchi, Tohru
.
Journal of Photopolymer Science and Technology. 11 (1998) 4 - p. 553-554 , 1998
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
6
Resists Using the Absorption Band Shift Method for ArF Exci..:
Okino, Takeshi
;
Asakawa, Koji
;
Shida, Naomi
.
Journal of Photopolymer Science and Technology. 11 (1998) 3 - p. 489-492 , 1998
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
7
Study of Copolymer Properties for ArF Excimer Laser Resists:
Asakawa, Koji
;
Ushirogouchi, Tohru
;
Shida, Naomi
..
Journal of Photopolymer Science and Technology. 10 (1997) 4 - p. 559-560 , 1997
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
8
Dissolution Inhibitors for 193-nm Chemically Amplified Resi..:
Ushirogouchi, Tohru
;
Asakawa, Koji
;
Okino, Takeshi
...
Japanese Journal of Applied Physics. 36 (1997) 12S - p. 7625 , 1997
Link:
https://doi.org/10.1143/..
?
9
Inhibition and Promotion Efficiency of Bis-phenol Type Diss..:
Kihara, Naoko
;
Saito, Satoshi
;
Naito, Takuya
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 10 (1997) 3 - p. 417-423 , 1997
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
10
Novel ArF Excimer Laser Resists Based on Menthyl Methacryla..:
SHIDA, Naomi
;
USHIROGOUCHI, Tohru
;
ASAKAWA, Kohji
.
Journal of Photopolymer Science and Technology. 9 (1996) 3 - p. 457-464 , 1996
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
11
Environmentally friendly water-soluble resists via chemical..:
SHIDA, Naomi
;
USHIROGOUCHI, Tohru
;
NAKASE, Makoto
Journal of Photopolymer Science and Technology. 8 (1995) 1 - p. 173-178 , 1995
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
12
Effect of acid evaporation in chemically amplified resists ..:
KIHARA, NAOKO
;
SAITO, SATOSHI
;
USHIROGOUCHI, TOHRU
.
Journal of Photopolymer Science and Technology. 8 (1995) 4 - p. 561-569 , 1995
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
13
Highly Transparent Chemically Amplified ArF Excimer Laser R..:
Naito, Takuya
;
Asakawa, Koji
;
Shida, Naomi
..
Japanese Journal of Applied Physics. 33 (1994) 12S - p. 7028 , 1994
Link:
https://doi.org/10.1143/..
?
14
Chemically Amplified Resist Using Self‐Solubility Accelerat..:
Kihara, Naoko
;
Ushirogouchi, Tohru
;
Tada, Tsukasa
...
Journal of The Electrochemical Society. 141 (1994) 11 - p. 3162-3166 , 1994
Link:
https://doi.org/10.1149/..
?
15
Molecular Design of Acid Generators for EB and ArF Excimer ..:
Ushirogouchi, Tohru
;
Kihara, Naoko
;
Saito, Satoshi
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 7 (1994) 3 - p. 423-432 , 1994
Link:
https://doi.org/10.2494/..
1-15