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Vesters, Yannick
9
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Online (9)
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Artikel (Online) (6)
OpenAccess-Volltexte (3)
Sortierung: Relevanz
Sortierung: Jahr
?
1
Molecular Modeling of EUV Photoresist Revealing the Effect ..:
Park, Juhae
;
Lee, Sung-Gyu
;
Vesters, Yannick
...
Polymers. 11 (2019) 12 - p. 1923 , 2019
Link:
https://doi.org/10.3390/..
?
2
Photoresist Absorption Measurement at Extreme Ultraviolet (..:
Shehzad, Atif
;
Vesters, Yannick
;
Simone, Danilo De
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 32 (2019) 1 - p. 57-66 , 2019
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
3
Multi Trigger Resist for EUV Lithography:
Popescu, Carmen
;
Vesters, Yannick
;
McClelland, Alexandra
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 31 (2018) 2 - p. 227-232 , 2018
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
4
The Path to Better Understanding Stochastics in EUV Photore..:
De Simone, Danilo
;
Vesters, Yannick
;
Vandenberghe, Geert
Journal of Photopolymer Science and Technology. 31 (2018) 5 - p. 651-655 , 2018
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
5
Role of Metal Sensitizers for Sensitivity Improvement in EU..:
Yamamoto, Hiroki
;
Vesters, Yannick
;
Jiang, Jing
...
Journal of Photopolymer Science and Technology. 31 (2018) 6 - p. 747-751 , 2018
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
6
Dissolution Rate Monitor Tool to Measure EUV Photoresist Di..:
Vesters, Yannick
;
De Simone, Danilo
;
De Gendt, Stefan
Journal of Photopolymer Science and Technology. 30 (2017) 6 - p. 675-681 , 2017
Link:
https://doi.org/10.2494/..
?
7
Molecular Modeling of EUV Photoresist Revealing the Effect ..:
Park, Juhae
;
Lee, Sung-Gyu
;
Vesters, Yannick
...
http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6960668/. , 2019
Link:
http://www.ncbi.nlm.nih...
?
8
Molecular Modeling of EUV Photoresist Revealing the Effect ..:
Juhae Park
;
Sung-Gyu Lee
;
Yannick Vesters
...
https://www.mdpi.com/2073-4360/11/12/1923. , 2019
Link:
https://doi.org/10.3390/..
?
9
Molecular Modeling of EUV Photoresist Revealing the Effect ..:
Juhae Park
;
Sung-Gyu Lee
;
Yannick Vesters
...
Polymer Physics and Theory. , 2019
Link:
https://doi.org/10.3390/..
1-9