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Yang, Beichao
14
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?
1
Modeling and Optimal Design of Inductor-Integrated Three-Ph..:
Yang, Beichao
;
Wang, Ruitian
;
Xiao, Fei
...
IEEE Transactions on Power Electronics. 38 (2023) 5 - p. 6196-6211 , 2023
Link:
https://doi.org/10.1109/..
?
2
Modeling and Design of High-Power Enhanced Leakage-Inductan..:
Zhang, Xinsheng
;
Xiao, Fei
;
Wang, Ruitian
..
Energies. 15 (2022) 4 - p. 1361 , 2022
Link:
https://doi.org/10.3390/..
?
3
Design of highly compact short‐time duty power inductors fo..:
Zhang, Xinsheng
;
Wang, Ruitian
;
Xiao, Fei
...
IET Power Electronics. 13 (2020) 18 - p. 4377-4385 , 2020
Link:
https://doi.org/10.1049/..
?
4
Design of an Inductor-Integrated Transformer Applied to Inv..:
, In:
2020 IEEE 1st China International Youth Conference on Electrical Engineering (CIYCEE)
,
Zhang, Xinsheng
;
Wang, Ruitian
;
Xiao, Fei
... - p. 1-7 , 2020
Link:
https://doi.org/10.1109/..
?
5
Modeling and Design of High-Power Enhanced Leakage-Inductan..:
Xinsheng Zhang
;
Fei Xiao
;
Ruitian Wang
..
https://dx.doi.org/10.3390/en15041361. , 2022
Link:
https://doi.org/10.3390/..
?
6
Modeling and Design of High-Power Enhanced Leakage-Inductan..:
Xinsheng Zhang
;
Fei Xiao
;
Ruitian Wang
..
https://www.mdpi.com/1996-1073/15/4/1361. , 2022
Link:
https://doi.org/10.3390/..
?
7
Spacecraft attitude maneuver planning with multi–sensor poi..:
Xue, Wenhao
;
Wang, Beichao
;
Huang, Xuxing
...
Advances in Space Research. 72 (2023) 5 - p. 1485-1495 , 2023
Link:
https://doi.org/10.1016/..
?
8
High brightness laser-driven white emitter for Etendue-limi..:
Yang, Yi
;
Zhuang, Songlin
;
Kai, Beichao
Applied Optics. 56 (2017) 30 - p. 8321 , 2017
Link:
https://doi.org/10.1364/..
?
9
Siconi Process Applications Study for 28nm Technology Node ..:
Tong, Hao
;
Zhang, Bin
;
Deng, Hao
...
ECS Transactions. 60 (2014) 1 - p. 447-451 , 2014
Link:
https://doi.org/10.1149/..
?
10
Process Optimization of Dielectric CVD Film for Patterning ..:
Deng, Hao
;
Zhang, Bin
;
Xiang, Yang Hui
...
ECS Transactions. 52 (2013) 1 - p. 409-413 , 2013
Link:
https://doi.org/10.1149/..
?
11
A High-Quality Spacer Oxide Formation for 28nm Technology N..:
Zhang, Bin
;
Xiang, Yang Hui
;
Deng, Hao
..
ECS Transactions. 44 (2012) 1 - p. 407-410 , 2012
Link:
https://doi.org/10.1149/..
?
12
A Study of SiCN Cap Process Resultant Plasma Induced Damage..:
Zhou, Ming
;
Xiang, Yang Hui
;
Guo, Shi Bi
...
ECS Transactions. 44 (2012) 1 - p. 423-429 , 2012
Link:
https://doi.org/10.1149/..
?
13
Nano-scale gap filling and mechanism of deposit—etch—deposi..:
Ren, Wan-Chun
;
Liu, Bo
;
Song, Zhi-Tang
...
Chinese Physics B. 21 (2012) 11 - p. 115203 , 2012
Link:
https://doi.org/10.1088/..
?
14
Thin Film Challenges in 28nm Technology Node:
Zhang, Beichao
;
Zhang, Bin
;
Xiao, Haibo
...
ECS Transactions. 44 (2012) 1 - p. 391-394 , 2012
Link:
https://doi.org/10.1149/..
1-14