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Yeom, Heejung
20
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?
1
Transmission spectrum analysis of ceramic-shielded microwav..:
Hwang, Do-Yeon
;
Yeom, Hee-Jung
;
Lee, Gawon
..
Journal of Applied Physics. 135 (2024) 22 - p. , 2024
Link:
https://doi.org/10.1063/..
?
2
Temperature‐Dependent Phase Transition in WS2 for Reinforci..:
Woo, Gunhoo
;
Cho, Jinill
;
Yeom, Heejung
...
Small Science. 4 (2024) 2 - p. , 2024
Link:
https://doi.org/10.1002/..
?
3
Computational Study on Transmission Spectra Considering Coa..:
Yeom, Hee-Jung
;
Chae, Gwang-Seok
;
Kim, Jung-Hyung
.
Applied Science and Convergence Technology. 33 (2024) 2 - p. 41-44 , 2024
Link:
https://doi.org/10.5757/..
?
4
Low‐Temperature, Universal Synthetic Route for Mesoporous M..:
Kim, Keon‐Woo
;
Seok, Hyunho
;
Son, Sihoon
...
Advanced Materials. 36 (2024) 18 - p. , 2024
Link:
https://doi.org/10.1002/..
?
5
Low‐Temperature, Universal Synthetic Route for Mesoporous M..:
Kim, Keon‐Woo
;
Seok, Hyunho
;
Son, Sihoon
...
Advanced Materials. 36 (2024) 18 - p. , 2024
Link:
https://doi.org/10.1002/..
?
6
Temperature‐Dependent Phase Transition in WS2 for Reinforci..:
Woo, Gunhoo
;
Cho, Jinill
;
Yeom, Heejung
...
Small Science. 4 (2023) 2 - p. , 2023
Link:
https://doi.org/10.1002/..
?
7
Role of Oxygen in Amorphous Carbon Hard Mask Plasma Etching:
Yeom, Hee-Jung
;
Yoon, Min Young
;
Choi, Daehan
...
ACS Omega. 8 (2023) 36 - p. 32450-32457 , 2023
Link:
https://doi.org/10.1021/..
?
8
Analysis of the Characteristics of Radio Frequency Power Tr..:
Park, Chan-Won
;
Yeom, Hee-Jung
;
Lee, Hyo-Chang
.
Applied Science and Convergence Technology. 32 (2023) 5 - p. 118-121 , 2023
Link:
https://doi.org/10.5757/..
?
9
Evaluation of H2 Plasma‐Induced Damage in Materials for EUV..:
Choe, Eun‐Seok
;
Choi, Seungwook
;
Kim, Ansoon
...
Advanced Materials Interfaces. 11 (2023) 7 - p. , 2023
Link:
https://doi.org/10.1002/..
?
10
Database Development of SiO2 Etching with Fluorocarbon Plas..:
Lee, Youngseok
;
Yeom, Heejung
;
Choi, Daehan
...
Nanomaterials. 12 (2022) 21 - p. 3828 , 2022
Link:
https://doi.org/10.3390/..
?
11
Role of Oxygen in Amorphous Carbon Hard Mask Plasma Etching:
Yeom, Hee-Jung
;
Yoon, Min Young
;
Choi, Daehan
...
http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC10500572/. , 2023
Link:
http://www.ncbi.nlm.nih...
?
12
Database Development of SiO(2) Etching with Fluorocarbon Pl..:
Lee, Youngseok
;
Yeom, Heejung
;
Choi, Daehan
...
http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC9658225/. , 2022
Link:
http://www.ncbi.nlm.nih...
?
13
Database Development of SiO 2 Etching with Fluorocarbon Pla..:
Youngseok Lee
;
Heejung Yeom
;
Daehan Choi
...
https://www.mdpi.com/2079-4991/12/21/3828. , 2022
Link:
https://doi.org/10.3390/..
?
14
Database Development of SiO2 Etching with Fluorocarbon Plas..:
Youngseok Lee
;
Heejung Yeom
;
Daehan Choi
...
Nanofabrication and Nanomanufacturing. , 2022
Link:
https://doi.org/10.3390/..
?
15
Role of Oxygen in Amorphous Carbon Hard Mask Plasma Etching:
Hee-Jung Yeom
;
Min Young Yoon
;
Daehan Choi
...
https://doi.org/10.1021/acsomega.3c02438. , 2023
Link:
https://doi.org/10.1021/..
1-15