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Yokoyama, Mesio
1
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1
Electrical Properties of Multiple High-Dose Si Implantation..:
Lai, Wei-Chih
;
Yokoyama, Mesio
;
Tsai, Chiung-Chi
...
Japanese Journal of Applied Physics. 38 (1999) 7B - p. L802 , 1999
Link:
https://doi.org/10.1143/..
1-1
