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Tests de circuits intégrés au MEB à travers les couches iso..:

Frémont, H ; Touboul, A ; Danto, Y
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/10.1051/rphysap:01990002506049900. , 1990

Link: https://hal.archives-ouvertes.fr/jpa-00246212

RT Journal
T1 <Title>Tests de circuits intégrés au MEB à travers les couches isolantes : correction des erreurs par simulation numérique</Title>

UL https://suche.suub.uni-bremen.de/peid=base-ftccsdartic:oai:HAL:jpa-00246212v1&Exemplar=1&LAN=DE
				
A1 Frémont, H
A1 Touboul, A
A1 Danto, Y
PB HAL CCSD; Société française de physique / EDP
YR 1990
K1 dielectric thin films
K1 electron beam applications
K1 integrated circuit testing
K1 measurement errors
K1 voltage measurement
K1 voltage contrast
K1 electron beam
K1 potentials
K1 capacitive coupling mechanisms
K1 passivated integrated circuit
K1 dielectric layers
K1 typical error source
K1 measurement procedure
K1 local fields effects
K1 secondary electrons shot noise
K1 2 D numerical simulation
K1 [PHYS.HIST]Physics [physics]/Physics archives
JF info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/10.1051/rphysap:01990002506049900
LK http://dx.doi.org/https://hal.archives-ouvertes.fr/jpa-00246212
DO https://hal.archives-ouvertes.fr/jpa-00246212
SF ELIB - SuUB Bremen

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